V americkém National Institute of Standards and Technology se zabývají studiem využití možností imersních technik při litografickié výrobě čipů. Již přes sto let využíváme tété techniky v mikroskopii, protože rozlišovací schopnost mikroskopu vzroste, ponoříme-li optický systém a zkoumaný vzorek do kapaliny s indexem lomu vyšším, než vzduch. Obdobného principu lze využít i při výrobě čipů. Současnými optickými litografickými technikami můžeme na křemíkovém čipu vyrobit detaily o rozměrech 100 nm, za použití imersní techniky se dostaneme na 65 nm použijime-li ultrafialové záření o vlnové délce 193 nm nebo dokonce na 45 nm pro vlnovou délku 147 nm. Dle posledních, přesných měření indexů lomu se jako nejvhodnější kapalina jeví superčistá voda.
Zlepšení litografických technik
31.7.2003
