Společnost Panasonic vyvinula výkonový tranzistor z nitridu galitého GaN, jehož průrazné napětí dosahuje 10.400 V, což je pětkrát více než u ostatních součástek z GaN. Bázi od kolektoru a emitoru odděluje izolační safírová (Al2O3) vrstva. V ní se nacházejí pomocí laseru vytavené otvory, vyplněné nitridem galitým, které jednotlivé elektrody propojují.