Velmi podstatně zvýšit rychlost skenování ve dvou i třech rozměrech umožní nový optický deflektor, který zkonstruoval Shizuo Yin se svými studenty z Pennsylavania State University spolu s Robertem C.Hoffmanem z Army Research Laboratory. Deflektor je zařízení, které vychyluje optický paprsek, což je při skenování klíčový úkol. Pro jejich výrobu se běžně využívá materiál zvaný KTN, chemicky tantaličnan niobičnan draselný KTa_xNbi_1-xO₃, protože vykazuje vysoký elektrooptický jev. Jeho optické vlastnosti se mění vlivem elektrického pole. Záleží-li nám na čase, je důležitá nejen velikost této změny, ale i rychlost, s jakou se projeví. U KTN ji určuje pohyblivost elektronů. Snižuje ji vliv působícího elektrického pole, které napomáhá udržení struktury s větším uspořádáním. Využití elektrického pole je pro fungování deflektoru naprosto nezbytné. Tento problém se podařilo překonat nevelkým zvýšením teploty na 26 °C. Vnitřní uspořádanost krystalků KTN se změní tak, že eliminuje stabilizující vliv použitého pole. Doba jeho odezvy poklesla z mikrosekund na nanosekundy. Umožní to podstatně zvýšit rychlost laserového tisku anebo provádět dynamické skeny měnících se systémů, např. živých organismů.