Prof. P.M.Ferreira s týmem spolupracovníků z University of Illinois at Urbana-Champaign spolu s N.X.Fangem z MIT vyvinuli novou metodu vytváření plochých struktur ze stříbra. Vzhledem k tomu, že dosahované rozlišení činí 30 nm, lze nové metody použít jako doplněk litografických technik při výrobě čipů. Prvním krokem je zhotovení elektrody s amorfní strukturou ze směsi jodidu stříbrného a fosforečnanu stříbrného. Iontovou vodivost tomuto materiálu propůjčují stříbrné kationty. Elektroda se odlije jako obtisk křemíkové destičky se vzorem vyleptaným tradičním technikami. Po jejím přiložení na podklad se průchodem proudu (postačí napětí 0,3 V) vytvoří obtisk těch částí, které se ho dotýkají, z tenké, velmi kvalitní stříbrné vrstvy. Rychlost jejího nárůstu je 20 nm/s. Stříbro jakožto velmi vodivý kov můžeme snadno použít i ve velmi malém měřítku. Na obrázku vidíme stříbrné vzory vytvořené popsanou metodu. Snímek byl pořízen rastrovacím elektronovým mikroskopem. Ve spodní části vidíme křemíkovou předlohu. Obr. IOP Science/Nanotechnology.