Dynamická fotolitografie

28.9.2014
Vzory vytvořené pomocí pohybujících se nanočástic (Li, J. et al. Nanomotor lithography. Nat. Commun. 5:5026 doi: 10.1038/ncomms6026, 2014). Obr.byl pořízen pomocí mikroskopie atomárních sil. Bílá úsečka je 2 mikrometry dlouhá, rozdíl mezi nejtmavšími a nejsvětlejšími místy je 80 nm.

Nanotechnologický tým prof.Josepha Wanga z University of California v San Diegu studuje možnosti využití nanočástic pro fotolitografické techniky, které slouží k vytváří struktur nepatrných rozměrů např. při výrobě integrovaných obvodů. Při klasickém postupu se na křemíkovou destičku nanese vrstva světlocitlivé látky (fotoresist), která se přes stínítko s požadovaným vzorem (masku) osvítí ultrafialovým zářením. Jde o jakousi analogii fotografického procesu, ovšem bez šedivých tónů, jen s černou a bílou. Rozpuštěním neexponovaných částí získáme na povrchu křemíku strukturu podle vzoru, s jejíž pomocí můžeme napařováním nebo odleptáváním vytvářet požadované struktury z vybraných materiálů. Pohybující se nanočástice může střídavě odkrývat a zakrývat různé oblasti, takže vytváření vzoru bude dynamické. K tomu může sloužit tyčinka délky několika mikrometrů o průměru 200 nm, jejíž konce jsou z různých kovů, hnaná chemotaxí. V 1% roztoku peroxidu vodíku se rychlost jeho rozkladu na různých materiálech liší tak, že vznikne síla, která nanotyčinku pohání jedním směrem rychlosti 15 mikrometrů za sekundu. Jinou možnost představují průhledné kuličky z oxidu křemičitého nebo polystyrenu o průměru 0,72 až 4,74 mikrometrů, která pro změnu slouží jako nepatrná čočka. Hnací síla vzniká rovněž rozkladem peroxidu vodíku, protože jednu její polovinu pokrývá tenká vrstva platiny, na níž se H2O2 snadno rozkládá. Jejich pohyb lze rovněž ovlivnit magnetickým polem. Vzory vytvořené pomocí pohybujících se nanočástic si můžeme prohlédnout na obrázku(Li, J. et al. Nanomotor lithography. Nat. Commun. 5:5026 doi: 10.1038/ncomms6026, 2014), který byl pořízen pomocí mikroskopie atomárních sil. Bílá úsečka je 2 mikrometry dlouhá, rozdíl mezi nejtmavšími a nejsvětlejšími místy je 80 nm.

 
Odeslat komentář k článku "Dynamická fotolitografie "



Opište text z obrázku:

Odeslat článek "Dynamická fotolitografie " e-mailem

Diskuse/Aktualizace